Να στείλετε μήνυμα
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System In Functional Film Field

Σύστημα εναπόθεσης μαγνητρονίων υπερσκληρών φιλμ σε πεδίο λειτουργικού φιλμ

  • Υψηλό φως

    Εναπόθεση με διασκορπισμό μαγνητρονίου πεδίου λειτουργικού φιλμ

    ,

    σύστημα διασκορπισμού μάγνητρον εξαιρετικά σκληρού φιλμ

    ,

    σύστημα διασκορπισμού μαγνητρονίου λειτουργικού φιλμ

  • Βάρος
    Προσαρμόσιμο
  • Μέγεθος
    Προσαρμόσιμο
  • Προσαρμόσιμο
    Διαθέσιμος
  • Περίοδος εγγύησης
    1 έτος ή κατά περίπτωση
  • Οροι αποστολής
    Θαλάσσια / Αεροπορική / Πολυτροπική Μεταφορά
  • Τόπος καταγωγής
    Chengdu, P.R.ΚΙΝΑ
  • Μάρκα
    ZEIT
  • Πιστοποίηση
    Case by case
  • Αριθμό μοντέλου
    MSC-FF-X—X
  • Ποσότητα παραγγελίας min
    1 σετ
  • Τιμή
    Case by case
  • Συσκευασία λεπτομέρειες
    ξύλινη θήκη
  • Χρόνος παράδοσης
    Κατά περίπτωση
  • Όροι πληρωμής
    T/T
  • Δυνατότητα προσφοράς
    Κατά περίπτωση

Σύστημα εναπόθεσης μαγνητρονίων υπερσκληρών φιλμ σε πεδίο λειτουργικού φιλμ

Εναπόθεση διασκορπισμού μαγνητρονίου σε πεδίο λειτουργικού φιλμ

 

 

Εφαρμογές

    Εφαρμογές     Συγκεκριμένος σκοπός     Τύπος Υλικού
    Λειτουργική ταινία     Υπερσκληρή ταινία     TiN, TiC

    Αδιάβροχη μεμβράνη

    Cr, AlSi, AlTi, κ.λπ
    Αντιστασιακή ταινία       NiCrSi, CrSi, MoTa, κ.λπ
   Υπεραγώγιμη ταινία       YbaCuO, BiSrCaCuo
      Μαγνητικό φιλμ     Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, κ.λπ

 

Αρχή λειτουργίας

Υπάρχουν πολλά είδη sputtering magnetron με διαφορετικές αρχές λειτουργίας και αντικείμενα εφαρμογής.Αλλά εκεί

είναι ένα κοινό πράγμα: κάνει τα ηλεκτρόνια να τρέχουν σε σπειροειδείς διαδρομές κοντά στην επιφάνεια στόχο μέσω αλληλεπίδρασης μεταξύ τους

μαγνητικά και ηλεκτρικά πεδία, αυξάνοντας έτσι την πιθανότητα δημιουργίας ιόντων που προέρχονται από ηλεκτρόνια που χτυπούν αργό.

Τα παραγόμενα ιόντα στη συνέχεια χτυπούν την επιφάνεια στόχου υπό τη δράση του ηλεκτρικού πεδίου και διασκορπίζουν τα υλικά-στόχους.

 

Χαρακτηριστικά

  Μοντέλο   MSC-FF-X—X
  Τύπος επίστρωσης   Διάφορα διηλεκτρικά φιλμ όπως μεταλλική μεμβράνη, οξείδιο μετάλλου και AIN
  Εύρος θερμοκρασίας επίστρωσης   Κανονική θερμοκρασία στους 500℃
  Μέγεθος θαλάμου κενού επικάλυψης   700mm*750mm*700mm (Προσαρμόσιμο)
  Κενό φόντου   < 5×10-7mbar
 Πάχος επίστρωσης   ≥ 10 nm
 Ακρίβεια ελέγχου πάχους   ≤ ±3%
  Μέγιστο μέγεθος επίστρωσης  ≥ 100mm (Προσαρμόσιμο)
  Ομοιομορφία πάχους φιλμ  ≤ ±0,5%
  Φορέας υποστρώματος   Με μηχανισμό περιστροφής πλανητών
  Υλικό στόχου  4×4 ίντσες (συμβατό με 4 ίντσες και κάτω)
  Παροχή ηλεκτρικού ρεύματος   Τα τροφοδοτικά όπως DC, παλμικό, RF, IF και bias είναι προαιρετικά
 Αέριο διεργασίας   Αρ, Ν2, Ο2
  Σημείωση: Προσαρμοσμένη παραγωγή διαθέσιμη.

                                                                                                                

Δείγμα επικάλυψης

Σύστημα εναπόθεσης μαγνητρονίων υπερσκληρών φιλμ σε πεδίο λειτουργικού φιλμ 0

 

Βήματα διαδικασίας

→ Τοποθετήστε το υπόστρωμα για την επίστρωση στον θάλαμο κενού.

→ Χονδρική σκούπα.

→ Ενεργοποιήστε τη μοριακή αντλία, σκουπίστε με ηλεκτρική σκούπαστην τελική ταχύτητα και μετά ενεργοποιήστε την περιστροφή και την περιστροφή.

→ Θέρμανση του θαλάμου κενού έως ότου η θερμοκρασία φτάσει τοστόχος;

→ Εφαρμόστε τον έλεγχο σταθερής θερμοκρασίας.

→ Καθαρά στοιχεία.

→ Περιστροφή και επιστροφή στην αρχή.

→ Μεμβράνη επίστρωσης σύμφωνα με τις απαιτήσεις της διαδικασίας.

→ Χαμηλώστε τη θερμοκρασία και σταματήστε τη διάταξη της αντλίας μετά την επίστρωση.

→ Σταματήστε να εργάζεστε ότανη αυτόματη λειτουργία έχει ολοκληρωθεί.

 

Τα Πλεονεκτήματά μας

Είμαστε κατασκευαστής.

Ώριμη διαδικασία.

Απάντηση εντός 24 εργάσιμων ωρών.

 

Η πιστοποίηση ISO μας

Σύστημα εναπόθεσης μαγνητρονίων υπερσκληρών φιλμ σε πεδίο λειτουργικού φιλμ 1

 

 

Μέρη των Διπλωμάτων Ευρεσιτεχνίας μας

Σύστημα εναπόθεσης μαγνητρονίων υπερσκληρών φιλμ σε πεδίο λειτουργικού φιλμ 2Σύστημα εναπόθεσης μαγνητρονίων υπερσκληρών φιλμ σε πεδίο λειτουργικού φιλμ 3

 

 

Μέρη των βραβείων μας και τα προσόντα Ε&Α

Σύστημα εναπόθεσης μαγνητρονίων υπερσκληρών φιλμ σε πεδίο λειτουργικού φιλμ 4Σύστημα εναπόθεσης μαγνητρονίων υπερσκληρών φιλμ σε πεδίο λειτουργικού φιλμ 5