Να στείλετε μήνυμα
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System For Medical Treatment

Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία

  • Υψηλό φως

    Ιατρική Θεραπεία Εναπόθεση διασκορπισμού Magnetron

    ,

    Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Απόθεση

    ,

    Ιατρική Θεραπεία Σύστημα sputtering Magnetron

  • Βάρος
    Προσαρμόσιμο
  • Μέγεθος
    Προσαρμόσιμο
  • Προσαρμόσιμο
    Διαθέσιμος
  • Περίοδος εγγύησης
    1 έτος ή κατά περίπτωση
  • Οροι αποστολής
    Θαλάσσια / Αεροπορική / Πολυτροπική Μεταφορά
  • Τόπος καταγωγής
    Chengdu, P.R.ΚΙΝΑ
  • Μάρκα
    ZEIT
  • Πιστοποίηση
    Case by case
  • Αριθμό μοντέλου
    MSC-MT-X—X
  • Ποσότητα παραγγελίας min
    1 σετ
  • Τιμή
    Case by case
  • Συσκευασία λεπτομέρειες
    ξύλινη θήκη
  • Χρόνος παράδοσης
    Κατά περίπτωση
  • Όροι πληρωμής
    T/T
  • Δυνατότητα προσφοράς
    Κατά περίπτωση

Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία

Εναπόθεση διασκορπισμού μαγνητρονίου στη βιομηχανία ιατρικής θεραπείας
 
 
Εφαρμογές    

     Εφαρμογές     Συγκεκριμένος σκοπός     Τύπος Υλικού
    Ιατρική περίθαλψη     Βιοσυμβατά υλικά      Ο Αλ2Ο3, TiO2

 
Αρχή λειτουργίας
Η βασική αρχή της εκτόξευσης μαγνητρονίων είναι ότι τα ηλεκτρόνια συγκρούονται με άτομα αργού κατά τη διαδικασία της πτήσης προς

ουπόστρωμα υπό τη δράση ηλεκτρικού πεδίου, τα παραγόμενα ιόντα αργού βομβαρδίζουν την επιφάνεια στόχο.Μετά την ενέργεια

ανταλλαγή,τα άτομα στην επιφάνεια στόχο διαφεύγουν από το αρχικό πλέγμακαι μεταφέρονται στο υπόστρωμα

επιφάνεια για να σχηματιστούν μεμβράνες.
 
Χαρακτηριστικά 

  Μοντέλο   MSC-MT-X—X
 Τύπος επίστρωσης   Διάφορα διηλεκτρικά φιλμ όπως μεταλλική μεμβράνη, οξείδιο μετάλλου και AIN
 Εύρος θερμοκρασίας επίστρωσης   Κανονική θερμοκρασία στους 500℃
 Κενό επίστρωσηςθάλαμος siζε  700mm * 750mm * 700mm (Προσαρμόσιμο)
  Κενό φόντου   < 5×10-7mbar
 Πάχος επίστρωσης   ≥ 10 nm
  Ακρίβεια ελέγχου πάχους  ≤ ±3%
 Μέγιστο μέγεθος επίστρωσης   ≥ 100mm (Προσαρμόσιμο)
  Ομοιομορφία πάχους φιλμ   ≤ ±0,5%
  Φορέας υποστρώματος  Με μηχανισμό περιστροφής πλανητών
  Υλικό στόχου   4×4 ίντσες (συμβατό με 4 ίντσες και κάτω)
  Παροχή ηλεκτρικού ρεύματος  Τα τροφοδοτικά όπως DC, παλμικό, RF, IF και bias είναι προαιρετικά
  Αέριο διεργασίας   Αρ, Ν2, Ο2
  Σημείωση: Προσαρμοσμένη παραγωγή διαθέσιμη.

                                                                                                                
Δείγμα επικάλυψης

Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία 0

 

Βήματα διαδικασίας 
→ Τοποθετήστε το υπόστρωμα για την επίστρωση στον θάλαμο κενού.
→ Χονδρική σκούπα.
→ Ενεργοποιήστε τη μοριακή αντλία, σκουπίστε με ηλεκτρική σκούπα στην τελική ταχύτητα και μετά ενεργοποιήστε την περιστροφή και την περιστροφή.
→ Θέρμανση του θαλάμου κενού έως ότου η θερμοκρασία φτάσει στον στόχο.
→ Εφαρμόστε τον έλεγχο σταθερής θερμοκρασίας.
→ Καθαρά στοιχεία.
→ Περιστροφή και επιστροφή στην αρχή.
→ Μεμβράνη επίστρωσης σύμφωνα με τις απαιτήσεις της διαδικασίας.
→ Χαμηλώστε τη θερμοκρασία και σταματήστε τη διάταξη της αντλίας μετά την επίστρωση.
→ Σταματήστε την εργασία όταν ολοκληρωθεί η αυτόματη λειτουργία.

 
Τα Πλεονεκτήματά μας
Είμαστε κατασκευαστής.
Ώριμη διαδικασία.
Απάντηση εντός 24 εργάσιμων ωρών.

 
Η πιστοποίηση ISO μας
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία 1
 

Μέρη των Διπλωμάτων Ευρεσιτεχνίας μας
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία 2Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία 3
 

Μέρη των βραβείων μας και τα προσόντα Ε&Α
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία 4Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία 5