Υπόστρωμα Photomask Εργοστάσιο, αγοράστε καλή τιμή Σύστημα μέτρησης διπλής διάθλασης προϊόντα

Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering System Deposition Για Ιατρική Θεραπεία
Μηχανή επίστρωσης με εναπόθεση HfO2 Magnetron Sputtering για τη βιομηχανία οπτικών
CoCr Magnetron Sputtering Coating Machine για τη βιομηχανία μαγνητικής εγγραφής
Βιομηχανία οπτικής εγγραφής Εξοπλισμός εναπόθεσης μαγνήτρου με ψεκασμό OEM
Διηλεκτρικές μεμβράνες Magnetron Deposition Sputter Coater στη βιομηχανία μπαταριών λεπτής μεμβράνης περοβσκίτη
Φωτοηλεκτρικές πληροφορίες οπτικά στοιχεία Sapphire CaF2 Plano Concave Lens
VR Optical Elements Συναρμολόγηση φακού ασφαιρικού καθρέφτη διπλής όψεως ασφαιρικής επιφάνειας VR
Αυτόματος Αχρωματισμός H-K9L BK7 Θετικός Αρνητικός Φακός Χαλαζίας
Μήκος κύματος μέτρησης αντανακλαστικού φιλμ εκτός άξονα Παραβολικός καθρέφτης OAP 632,8 nm
Φωτοηλεκτρικές πληροφορίες 98% Ομοαξονικός Παραβολικός Καθρέπτης εκτός άξονα
Σφαιρική Επεξεργασία Οπτικά Στοιχεία Ασφαιρικοί συμπυκνωτικοί φακοί χαλαζία BK7
Κάλυμμα με οπτικό γυάλινο κάλυμμα κάμερας επιτήρησης με αντιεκρηκτική προστασία
BK7 Quartz Optical Elements Plano Convex Κυλινδρικός Φακός
BK7 Quartz Sapphire Optical Elements Anti-reflective Multilayer Film Biconave Leens
H-K9L Quartz Optical Elements Plano Concave Κυλινδρικός Φακός
ZEIT Optical Elements CWL FWHM Φίλτρα υπεριώδους φωτός παρεμβολή στενής ζώνης

2 3 5 6 τελευταίος Σύνολο 10 Σελίδες

ZEIT Group Προϊόντα