Να στείλετε μήνυμα
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Separation Membrane Field Filtration Atomic Layer Deposition ALD Machine

Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού

  • Υψηλό φως

    Πεδίο μεμβράνης διαχωρισμού Εναπόθεση ατομικού στρώματος

    ,

    Μηχανή πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού

    ,

    Μηχάνημα φίλτρου

  • Βάρος
    Προσαρμόσιμο
  • Μέγεθος
    Προσαρμόσιμο
  • Περίοδος εγγύησης
    1 έτος ή κατά περίπτωση
  • Προσαρμόσιμο
    Διαθέσιμος
  • Οροι αποστολής
    Θαλάσσια / Αεροπορική / Πολυτροπική Μεταφορά
  • Τόπος καταγωγής
    Chengdu, P.R.ΚΙΝΑ
  • Μάρκα
    ZEIT
  • Πιστοποίηση
    Case by case
  • Αριθμό μοντέλου
    ALD-SM-X—X
  • Ποσότητα παραγγελίας min
    1 σετ
  • Τιμή
    Case by case
  • Συσκευασία λεπτομέρειες
    ξύλινη θήκη
  • Χρόνος παράδοσης
    Κατά περίπτωση
  • Όροι πληρωμής
    T/T
  • Δυνατότητα προσφοράς
    Κατά περίπτωση

Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού

Εναπόθεση ατομικής στρώσης στο πεδίο διαχωριστικής μεμβράνης

 

 

Εφαρμογές

    Εφαρμογές     Συγκεκριμένος σκοπός
    Διαχωριστική μεμβράνη

    Διήθηση

    Διαχωρισμός αερίων

 

Αρχή λειτουργίας
Η εναπόθεση ατομικής στιβάδας (ALD) έχει τα ακόλουθα πλεονεκτήματα λόγω της χημειορόφησης κορεσμού επιφάνειας και

μηχανισμός αυτοπεριοριζόμενης αντίδρασης:
1. Ελέγξτε με ακρίβεια το πάχος του φιλμ ελέγχοντας τους αριθμούς του κύκλου.
2. Λόγω του μηχανισμού κορεσμού της επιφάνειας, δεν υπάρχει ανάγκη να ελέγχεται η ομοιομορφία της ροής του προδρόμου.
3. Μπορούν να δημιουργηθούν ομοιόμορφες μεμβράνες.
4. Εξαιρετική κάλυψη βημάτων με υψηλή αναλογία διαστάσεων.

 

Χαρακτηριστικά

    Μοντέλο      ALD-SM-X—X
    Σύστημα φιλμ επίστρωσης      AL2Ο3,TiO2,ZnO, κλπ
    Εύρος θερμοκρασίας επίστρωσης      Κανονική θερμοκρασία έως 500℃ (Προσαρμόσιμη)
    Μέγεθος θαλάμου κενού επικάλυψης

     Εσωτερική διάμετρος: 1200mm, Ύψος: 500mm (Προσαρμόσιμο)

    Δομή θαλάμου κενού      Σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη
    Κενό φόντου      <5×10-7mbar
   Πάχος επίστρωσης     ≥0,15 nm
    Ακρίβεια ελέγχου πάχους      ±0,1 nm
    Μέγεθος επίστρωσης     200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200 mm², κ.λπ.
    Ομοιομορφία πάχους φιλμ      ≤±0,5%
  Πρόδρομο και φέρον αέριο

     Τριμεθυλαλουμίνιο, τετραχλωριούχο τιτάνιο, διαιθυλο ψευδάργυρος, καθαρό νερό,

άζωτο κ.λπ.

    Σημείωση: Προσαρμοσμένη παραγωγή διαθέσιμη.

                                                                                                                

Δείγματα Επικάλυψης

Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού 0Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού 1

 

Βήματα διαδικασίας
→ Τοποθετήστε το υπόστρωμα για την επίστρωση στον θάλαμο κενού.
→ Αφαιρέστε τον θάλαμο κενού με ηλεκτρική σκούπα σε υψηλή και χαμηλή θερμοκρασία και περιστρέψτε το υπόστρωμα ταυτόχρονα.
→ Επίστρωση έναρξης: το υπόστρωμα έρχεται σε επαφή με τον πρόδρομο στη σειρά και χωρίς ταυτόχρονη αντίδραση.
→ Καθαρίστε το με αέριο άζωτο υψηλής καθαρότητας μετά από κάθε αντίδραση.
→ Σταματήστε την περιστροφή του υποστρώματος αφού το πάχος της μεμβράνης φτάσει στο πρότυπο και η λειτουργία καθαρισμού και ψύξης είναι

ολοκληρωθεί και, στη συνέχεια, αφαιρέστε το υπόστρωμα αφού πληρούνται οι συνθήκες θραύσης υπό κενό.

 

Τα Πλεονεκτήματά μας

Είμαστε κατασκευαστής.

Ώριμη διαδικασία.

Απάντηση εντός 24 εργάσιμων ωρών.

 

Η πιστοποίηση ISO μας

Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού 2

 

 

Μέρη των διπλωμάτων ευρεσιτεχνίας μας

Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού 3Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού 4

 

 

Μέρη των βραβείων μας και τα προσόντα Ε&Α

Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού 5Μηχανή ALD εναπόθεσης ατομικής στρώσης διήθησης πεδίου μεμβράνης διαχωρισμού 6