Να στείλετε μήνυμα
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
AL2O3 Atomic Layer Deposition Equipment For Nanostructure Pattern Industry

Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών

  • Υψηλό φως

    Εναπόθεση ατομικού στρώματος νανοδομής

    ,

    Εναπόθεση ατομικού στρώματος βιομηχανίας προτύπων

    ,

    εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3

  • Βάρος
    Προσαρμόσιμο
  • Μέγεθος
    Προσαρμόσιμο
  • Περίοδος εγγύησης
    1 έτος ή κατά περίπτωση
  • Προσαρμόσιμο
    Διαθέσιμος
  • Οροι αποστολής
    Θαλάσσια / Αεροπορική / Πολυτροπική Μεταφορά
  • Τόπος καταγωγής
    Chengdu, P.R.ΚΙΝΑ
  • Μάρκα
    ZEIT
  • Πιστοποίηση
    Case by case
  • Αριθμό μοντέλου
    ALD-NP-X—X
  • Ποσότητα παραγγελίας min
    1 σετ
  • Τιμή
    Case by case
  • Συσκευασία λεπτομέρειες
    ξύλινη θήκη
  • Χρόνος παράδοσης
    Κατά περίπτωση
  • Όροι πληρωμής
    T/T
  • Δυνατότητα προσφοράς
    Κατά περίπτωση

Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών

Εναπόθεση ατομικού στρώματος στη βιομηχανία νανοδομών και προτύπων
 
 
Εφαρμογές

 Εφαρμογές     Συγκεκριμένος σκοπός
    Νανοδομή και σχέδιο

    Νανοδομή υποβοηθούμενη από πρότυπο

    Νανοδομή υποβοηθούμενη από καταλύτη
    Περιοχική εκλεκτική ALD για προετοιμασία νανομοτίβου

 
Αρχή λειτουργίας
Η εναπόθεση ατομικής στιβάδας είναι μια μέθοδος σχηματισμού μεμβράνης κάνοντας εναλλάξ παλμούς των πρόδρομων ουσιών της αέριας φάσης
στον θάλαμο αντίδρασης και παράγοντας την αντίδραση χημειορόφησης αερίου-στερεάς φάσης στο εναποτιθέμενο υπόστρωμα
επιφάνεια.Όταν οι πρόδρομοιφτάσουν στην επιφάνεια του εναποτιθέμενου υποστρώματος, θα προσροφηθούν χημικά
την επιφάνεια και παράγουν τις επιφανειακές αντιδράσεις.

 
Χαρακτηριστικά

    Μοντέλο     ALD-NP-X—X
    Σύστημα φιλμ επίστρωσης     AL2Ο3,TiO2,ZnO, κλπ
    Εύρος θερμοκρασίας επίστρωσης   Κανονική θερμοκρασία έως 500℃ (Προσαρμόσιμη)
    Μέγεθος θαλάμου κενού επικάλυψης

  Εσωτερική διάμετρος: 1200mm, Ύψος: 500mm (Προσαρμόσιμο)

    Δομή θαλάμου κενού     Σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη
    Κενό φόντου     <5×10-7mbar
    Πάχος επίστρωσης     ≥0,15 nm
    Ακρίβεια ελέγχου πάχους   ±0,1 nm
    Μέγεθος επίστρωσης   200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200 mm², κ.λπ.
    Ομοιομορφία πάχους φιλμ     ≤±0,5%
    Πρόδρομο και φέρον αέριο

    Τριμεθυλαλουμίνιο, τετραχλωριούχο τιτάνιο, διαιθυλο ψευδάργυρος, καθαρό νερό,
άζωτο κ.λπ.

    Σημείωση: Προσαρμοσμένη παραγωγή διαθέσιμη.

                                                                                                                
Δείγματα Επικάλυψης

Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών 0Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών 1

 

Βήματα διαδικασίας
→ Τοποθετήστε το υπόστρωμα για την επίστρωση στον θάλαμο κενού.
→ Αφαιρέστε τον θάλαμο κενού με ηλεκτρική σκούπα σε υψηλή και χαμηλή θερμοκρασία και περιστρέψτε το υπόστρωμα ταυτόχρονα.
→ Επίστρωση έναρξης: το υπόστρωμα έρχεται σε επαφή με τον πρόδρομο στη σειρά και χωρίς ταυτόχρονη αντίδραση.
→ Καθαρίστε το με αέριο άζωτο υψηλής καθαρότητας μετά από κάθε αντίδραση.
→ Σταματήστε την περιστροφή του υποστρώματος αφού το πάχος της μεμβράνης φτάσει στο πρότυπο και η λειτουργία καθαρισμού και ψύξης είναι

ολοκληρωθεί, στη συνέχεια αφαιρέστε το υπόστρωμα αφού πληρούνται οι συνθήκες θραύσης υπό κενό.
 
Τα Πλεονεκτήματά μας
Είμαστε κατασκευαστής.
Ώριμη διαδικασία.
Απάντηση εντός 24 εργάσιμων ωρών.

 
Η πιστοποίηση ISO μας
Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών 2
 

Μέρη των Διπλωμάτων Ευρεσιτεχνίας μας
Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών 3Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών 4
 

Μέρη των βραβείων μας και τα προσόντα Ε&Α

Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών 5Εξοπλισμός εναπόθεσης ατομικού στρώματος AL2O3 για τη βιομηχανία μοτίβων νανοδομών 6