Το κέντρο τεχνολογίας επιστρώματος ZEIT έχει αναλάβει τη μελέτη ανάπτυξης διαδικασίας Suzhou PECVD. Μετά από μισό μήνα ανάπτυξης διαδικασίας και τεχνολογικής σημαντικής ανακάλυψης, ZEIT ολοκλήρωσε τη διαδικασία PECVD SiNx και οι ταινίες SiO2, έφθασαν στους δείκτες της ομοιομορφίας επιφάνειας και κάθε ομοιομορφίας στρώματος.
Μέσω αυτού του προγράμματος, ZEIT έχει διαμορφώσει τα χαρακτηριστικά στις βασικές τεχνολογίες του εξοπλισμού PECVD, όπως η ταιριάζοντας με RF, γρήγορη και σταθερή πίεση αντίδρασης, ομοιόμορφη διανομή της ροής αέρος, και επίσης έχει προτείνει τις λύσεις για τη ρύπανση σκόνης, τη διαμορφωμένη επιφάνεια ταινιών, την αίθουσα αυτοκαθαριζόμενες, κ.λπ. εμφανιζόμενος από αυτό, ZEIT έχει συσσωρεύσει πολλή εμπειρία της βελτιστοποίησης εξοπλισμού PECVD και της τεχνολογικής ρύθμισης, η οποία έχει θέσει στερεά θεμέλια για την αντικατάσταση εισαγωγών, την εκβιομηχάνιση, και τις συνεχείς σχέσεις πελατών.