6×6×0,12 ίντσες MEMS Photomask Chrome Photoresist επίστρωση υποστρώματος

6 ίντσες × 6 ίντσες × 0,12 ίντσες Υπόστρωμα φωτομάσκας χαλαζία για χρήση τσιπ

Εφαρμογές

Τα πεδία της διαδικασίας φωτολιθογραφίας, όπως η κατασκευή ολοκληρωμένων κυκλωμάτων, FPD (Flat Panel Display),

MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) κ.λπ.

Αρχή λειτουργίας

Η μάσκα είναι μια γραφική κύρια μάσκα που χρησιμοποιείται συνήθως στη φωτολιθογραφία της κατασκευής μικρο-νανο.Η γραφική δομή

σχηματίζεται σε ένα διαφανές υπόστρωμα από μια αδιαφανή φωτομάσκα και στη συνέχεια οι γραφικές πληροφορίες μεταφέρονται στο

υπόστρωμα προϊόντος μέσω μιας διαδικασίας έκθεσης.

Χαρακτηριστικά

                                                        Υπόστρωμα Photomask για χρήση τσιπ

Ροή διαδικασίας

→ Ανίχνευση πρώτων υλών.

→ Τραχιά λείανση.

→ Τραχύ γυάλισμα.

→ Καθαρισμός μάσκας.

→ Έλεγχος απόδοσης πρώτων υλών.

→ Επιχρυσωμένο με χρώμιο.

→ Δοκιμή απόδοσης μάσκας.

→ Φωτοανθεκτικό επίχρισμα.

→ Συσκευασία.

→ Μεταφορές.

Τα Πλεονεκτήματά μας

Είμαστε κατασκευαστής.

Ώριμη διαδικασία.

Απάντηση εντός 24 εργάσιμων ωρών.

Η πιστοποίηση ISO μας

Μέρη των Διπλωμάτων Ευρεσιτεχνίας μας

Μέρη των βραβείων μας και τα προσόντα Ε&Α